潔淨（jìng）車間（jiān）溫濕度控製的講解

潔（jié）淨（jìng）車間溫濕度控製的（de）講解

潔淨車間的溫濕度主（zhǔ）要是根（gēn）據工藝要求來確定，但在（zài）滿足工藝要求的（de）條件下，應考慮到人的舒（shū）適度感。隨著無塵廠房空氣潔淨度要求的提高，出現了工藝（yì）對溫濕度的要求也（yě）越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以後再列舉說明，但作（zuò）為總的原則看（kàn），由（yóu）於加工精度越來（lái）越精細，所以對潔淨室（shì）工程的溫度（dù）波動範圍要求越來越小。

在（zài）無塵廠房的大（dà）規模（mó）集（jí）成電（diàn）路生產的光刻曝（pù）光工藝中，作（zuò）為掩膜板材料（liào）的玻璃與矽片（piàn）的熱膨脹係數的差要求（qiú）越來越小。直徑（jìng）100 um的矽片，溫度上升1度（dù），就引起了0.24um線性膨脹（zhàng），所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較（jiào）低，因為人出汗以後，對產品將有汙染，潔（jié）淨車（chē）間是怕鈉的（de）半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產（chǎn）生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷（lěng）卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起各種（zhǒng）事故（gù）。

潔淨車間如果相對濕度在50%時易（yì）生鏽。此（cǐ）外，濕度太高時將通過空（kōng）氣中的水分子把矽片表麵粘著的灰塵化學吸附在表麵難以清除。無（wú）塵（chén）廠房的相對濕度越高，粘附的越難去掉，但當相對濕度低於30%時，又由於靜電力的作用使粒子也容易吸附於表麵，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對於矽片生產適合濕度範圍為35—45%，所以對於（yú）潔淨室工程的溫濕度要求相對較高。